SOIのRTOならびに低温熱酸化における界面電荷の制御

• 資料種別: 図書
• タイトル: SOIのRTOならびに低温熱酸化における界面電荷の制御
• タイトルよみ: SOI ノ RTO ナラビニ テイオン ネツ サンカ ニ オケル カイメン デンカ ノ セイギョ
• 著者・編者: 梅野, 正隆, 大阪大学
• 著者標目: 梅野, 正隆 ウメノ, マサタカ
• 出版年月日等: 1995-1996
• 出版年（W3CDTF）: 1995
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 一般研究(B)
• 件名標目: シリコン シリコン; 熱酸化 ネツサンカ; 酸化膜 サンカマク; NF3 NF3; RTO RTO; SOI SOI
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 07455025
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H07455025
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007003010; http://id.ndl.go.jp/bib/000007003010
• 整理区分コード: 214