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SOIのRTOならびに低温熱酸化における界面電荷の制御

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SOIのRTOならびに低温熱酸化における界面電荷の制御

国立国会図書館請求記号
Y151-H07455025
国立国会図書館書誌ID
000007003010
資料種別
図書
著者
梅野, 正隆, 大阪大学
出版者
-
出版年
1995-1996
資料形態
紙
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記：

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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紙

資料種別
図書
タイトル
SOIのRTOならびに低温熱酸化における界面電荷の制御
タイトルよみ
SOI ノ RTO ナラビニ テイオン ネツ サンカ ニ オケル カイメン デンカ ノ セイギョ
著者・編者
梅野, 正隆, 大阪大学
著者標目
梅野, 正隆 ウメノ, マサタカ
出版年月日等
1995-1996
出版年（W3CDTF）
1995
数量
冊
その他のタイトル
研究種目 一般研究(B)
件名標目
シリコン シリコン
熱酸化 ネツサンカ
酸化膜 サンカマク
NF3 NF3
RTO RTO
SOI SOI