イオン蒸着によるSiヘテロ界面形成と制御に関する基礎研究

• 資料種別: 図書
• タイトル: イオン蒸着によるSiヘテロ界面形成と制御に関する基礎研究
• タイトルよみ: イオン ジョウチャク ニ ヨル Si ヘテロ カイメン ケイセイ ト セイギョ ニ カンスル キソ ケンキュウ
• 著者・編者: 生地, 文也, 九州共立大学
• 著者標目: 生地, 文也 ショウジ, フミヤ
• 出版年月日等: 1995-1997
• 出版年（W3CDTF）: 1995
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 一般研究(C)
• 件名標目: hetero-expitaxy HETERO-EXPITAXY; Ion Scuttering IONSCUTTERING; Ion beam deposition IONBEAMDEPOSITION; Thin Film THINFILM; Surtace and Interface SURTACEANDINTERFACE; Surface stuuscture analysis SURFACESTUUSCTUREANALYSIS; Thin Film Growth THINFILMGROWTH
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 07650039
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H07650039
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007006873; http://id.ndl.go.jp/bib/000007006873
• 整理区分コード: 214