イオン蒸着によるSiヘテロ界面形成と制御に関する基礎研究

• Material Type: 図書
• Title: イオン蒸着によるSiヘテロ界面形成と制御に関する基礎研究
• Title Transcription: イオン ジョウチャク ニ ヨル Si ヘテロ カイメン ケイセイ ト セイギョ ニ カンスル キソ ケンキュウ
• Author/Editor: 生地, 文也, 九州共立大学
• Author Heading: 生地, 文也 ショウジ, フミヤ
• Publication Date: 1995-1997
• Publication Date (W3CDTF): 1995
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 一般研究(C)
• Subject Heading: hetero-expitaxy HETERO-EXPITAXY; Ion Scuttering IONSCUTTERING; Ion beam deposition IONBEAMDEPOSITION; Thin Film THINFILM; Surtace and Interface SURTACEANDINTERFACE; Surface stuuscture analysis SURFACESTUUSCTUREANALYSIS; Thin Film Growth THINFILMGROWTH
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 07650039
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H07650039
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000007006873; http://id.ndl.go.jp/bib/000007006873
• Bibliographic Record Category (NDL): 214