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界面制御した酸化物薄膜のシリコン基板上へのヘテロエピタキシヤル成長

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界面制御した酸化物薄膜のシリコン基板上へのヘテロエピタキシヤル成長

国立国会図書館請求記号
Y151-H07650362
国立国会図書館書誌ID
000007007044
資料種別
図書
著者
堀田, 將, 北陸先端科学技術大学院大学
出版者
-
出版年
1995-1996
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
カイメン セイギョ シタ サンカブツ ハクマク ノ シリコン キバン ジョウ ヘ ノ ヘテロエピタキシヤル セイチョウ
著者・編者
堀田, 將, 北陸先端科学技術大学院大学
著者標目
堀田, 將 ホリタ, ススム
出版年月日等
1995-1996
出版年(W3CDTF)
1995
数量
その他のタイトル
研究種目 一般研究(C)
件名標目
イツトリア安定化ジルコニア イツトリアアンテイカジルコニア
シリコン シリコン
ヘテロエピタキシヤル成長 ヘテロエピタキシヤルセイチヨウ
反応性スパツタ ハンノウセイスパツタ
スパツタリング スパツタリング
誘電体 ユウデンタイ