界面制御した酸化物薄膜のシリコン基板上へのヘテロエピタキシヤル成長

• Material Type: 図書
• Title: 界面制御した酸化物薄膜のシリコン基板上へのヘテロエピタキシヤル成長
• Title Transcription: カイメン セイギョ シタ サンカブツ ハクマク ノ シリコン キバン ジョウ ヘ ノ ヘテロエピタキシヤル セイチョウ
• Author/Editor: 堀田, 將, 北陸先端科学技術大学院大学
• Author Heading: 堀田, 將 ホリタ, ススム
• Publication Date: 1995-1996
• Publication Date (W3CDTF): 1995
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 一般研究(C)
• Subject Heading: イツトリア安定化ジルコニア イツトリアアンテイカジルコニア; シリコン シリコン; ヘテロエピタキシヤル成長 ヘテロエピタキシヤルセイチヨウ; 反応性スパツタ ハンノウセイスパツタ; スパツタリング スパツタリング; 誘電体 ユウデンタイ
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 07650362
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H07650362
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000007007044; http://id.ndl.go.jp/bib/000007007044
• Bibliographic Record Category (NDL): 214