イオンクラスターの電界制御によるTEOS/O3常圧CVD薄膜の選択形成

• 資料種別: 図書
• タイトル: イオンクラスターの電界制御によるTEOS/O3常圧CVD薄膜の選択形成
• タイトルよみ: イオンクラスター ノ デンカイ セイギョ ニ ヨル TEOS/O3 ジョウアツ CVD ハクマク ノ センタク ケイセイ
• 著者・編者: 足立, 元明, 大阪府立大学
• 著者標目: 足立, 元明 アダチ, モトアキ
• 出版年月日等: 1995-1996
• 出版年（W3CDTF）: 1995
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 一般研究(C)
• 件名標目: CVD CVD; 薄膜 ハクマク; イオンクラスター イオンクラスター; イオン核生成 イオンカクセイセイ; 気相核生成 キソウカクセイセイ; TEOS TEOS; 選択成長 センタクセイチヨウ; ナノメータ粒子 ナノメータリユウシ
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 07650927
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H07650927
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007007408; http://id.ndl.go.jp/bib/000007007408
• 整理区分コード: 214