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半導体プロセス用低温高周波プラズマの理論体系の確立

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半導体プロセス用低温高周波プラズマの理論体系の確立

国立国会図書館請求記号
Y151-H08044169
国立国会図書館書誌ID
000007010694
資料種別
図書
著者
真壁, 利明, 慶応義塾大学
出版者
-
出版年
1996-1997
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
ハンドウタイ プロセスヨウ テイオン コウシュウハ プラズマ ノ リロン タイケイ ノ カクリツ
著者・編者
真壁, 利明, 慶応義塾大学
著者標目
著者 : 真壁, 利明, 1947- マカベ, トシアキ, 1947- ( 00162951 )典拠
出版年月日等
1996-1997
出版年(W3CDTF)
1996
数量
その他のタイトル
研究種目 国際学術研究
件名標目
rf電子輸送論 RFデンシユソウロン
rf電子異常拡散 RFデンシイジヨウカクサン
ボルツマン方程式 ボルツマンホウテイシキ
ICPプラズマ ICPプラズマ
ICP熱機構 ICPネツキコウ
E B電子輸送 EBデンシユソウ
トモグラフイー診断 トモグラフイーシンダン
プラズマモデリング プラズマモデリング