図書

半導体プロセス用低温高周波プラズマの理論体系の確立

Icons representing 図書

半導体プロセス用低温高周波プラズマの理論体系の確立

Call No. (NDL)
Y151-H08044169
Bibliographic ID of National Diet Library
000007010694
Material type
図書
Author
真壁, 利明, 慶応義塾大学
Publisher
-
Publication date
1996-1997
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
-
NDC
-
View All

Notes on use

Note (General):

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

Search by Bookstore

Bibliographic Record

You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.

Paper

Material Type
図書
Title Transcription
ハンドウタイ プロセスヨウ テイオン コウシュウハ プラズマ ノ リロン タイケイ ノ カクリツ
Author/Editor
真壁, 利明, 慶応義塾大学
Author Heading
著者 : 真壁, 利明, 1947- マカベ, トシアキ, 1947- ( 00162951 )Authorities
Publication Date
1996-1997
Publication Date (W3CDTF)
1996
Extent
Additional Title
研究種目 国際学術研究
Subject Heading
rf電子輸送論 RFデンシユソウロン
rf電子異常拡散 RFデンシイジヨウカクサン
ボルツマン方程式 ボルツマンホウテイシキ
ICPプラズマ ICPプラズマ
ICP熱機構 ICPネツキコウ
E B電子輸送 EBデンシユソウ
トモグラフイー診断 トモグラフイーシンダン
プラズマモデリング プラズマモデリング