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図書

半導体プロセス用低温高周波プラズマの理論体系の確立

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半導体プロセス用低温高周波プラズマの理論体系の確立

Call No. (NDL)
Y151-H08044169
Bibliographic ID of National Diet Library
000007010694
Material type
図書
Author
真壁, 利明, 慶応義塾大学
Publisher
-
Publication date
1996-1997
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
-
NDC
-
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Notes on use

Note (General):

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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Bibliographic Record

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Paper

Material Type
図書
Title Transcription
ハンドウタイ プロセスヨウ テイオン コウシュウハ プラズマ ノ リロン タイケイ ノ カクリツ
Author/Editor
真壁, 利明, 慶応義塾大学
Author Heading
著者 : 真壁, 利明, 1947- マカベ, トシアキ, 1947- ( 00162951 )Authorities
Publication Date
1996-1997
Publication Date (W3CDTF)
1996
Extent
Additional Title
研究種目 国際学術研究
Subject Heading
rf電子輸送論 RFデンシユソウロン
rf電子異常拡散 RFデンシイジヨウカクサン
ボルツマン方程式 ボルツマンホウテイシキ
ICPプラズマ ICPプラズマ
ICP熱機構 ICPネツキコウ
E B電子輸送 EBデンシユソウ
トモグラフイー診断 トモグラフイーシンダン
プラズマモデリング プラズマモデリング