ラングミュア吸着・反応制御プロセスを駆使して製作する4族半導体極微細デバイス

• 資料種別: 図書
• タイトル: ラングミュア吸着・反応制御プロセスを駆使して製作する4族半導体極微細デバイス
• タイトルよみ: ラングミュア キュウチャク ・ ハンノウ セイギョ プロセス オ クシ シテ セイサク スル 4 ゾク ハンドウタイキョク ビサイ デバイス
• 著者・編者: 室田淳一, 東北大学
• 著者標目: 室田, 淳一 ムロタ, ジュンイチ
• 出版年月日等: 1996-1998
• 出版年（W3CDTF）: 1996; 1998
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(A)
• 件名標目: ラングミユア吸着・反応 ラングミユアキユウチヤク・ハンノウ; IV族半導体 IVゾクハンドウタイ; 極微細デバイス キヨクビサイデバイス; 原子層成長 ゲンシソウセイチヨウ; 表面処理 ヒヨウメンシヨリ; 原子層エツチング ゲンシソウエツチング; 水素終端 スイソシユウタン; 低温ヘテロエピタキシヤル成長 テイオンヘテロエピタキシヤルセイチヨウ
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 08405022
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H08405022
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007011188; http://id.ndl.go.jp/bib/000007011188
• 整理区分コード: 214