結晶核制御技術による高品質多結晶SiGeの低温成長

• 資料種別: 図書
• タイトル: 結晶核制御技術による高品質多結晶SiGeの低温成長
• タイトルよみ: ケッショウカク セイギョ ギジュツ ニ ヨル コウヒンシツ タケッショウ SiGe ノ テイオン セイチョウ
• 著者・編者: 半那, 純一, 東京工業大学
• 著者標目: 半那, 純一 ハンナ, ジュンイチ
• 出版年月日等: 1996-1997
• 出版年（W3CDTF）: 1996
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(B)
• 件名標目: 熱CVD ネツCVD; フツ化ゲルマニウム フツカゲルマニウム; ジシラン ジシラン; 多結晶SiGe タケツシヨウSIGE; 選択成長 センタクセイチヨウ; 結晶核 ケツシヨウカク
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 08455010
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H08455010
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007011695; http://id.ndl.go.jp/bib/000007011695
• 整理区分コード: 214