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電子エネルギー損失分光法を用いた原子層CVDにおける反応メカニズムの研究

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電子エネルギー損失分光法を用いた原子層CVDにおける反応メカニズムの研究

国立国会図書館請求記号
Y151-H08455019
国立国会図書館書誌ID
000007011703
資料種別
図書
著者
安田, 幸夫, 名古屋大学
出版者
-
出版年
1996-1998
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
デンシ エネルギー ソンシツ ブンコウホウ オ モチイタ ゲンシソウ CVD ニ オケル ハンノウ メカニズム ノ ケンキュウ
著者・編者
安田, 幸夫, 名古屋大学
著者標目
安田, 幸夫 ヤスダ, ユキオ
出版年月日等
1996-1998
出版年(W3CDTF)
1996
数量
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(B)
件名標目
高分解能電子エネルギー損失分光法 コウブンカイノウデンシエネルギーソンシツブンコウホウ
化学気相成長 カガクキソウセイチヨウ
表面吸着水素 ヒヨウメンキユウチヤクスイソ
表面反応メカニズム ヒヨウメンハンノウメカニズム
ガスソース分子線エピタキシー ガスソースブンシセンエピタキシー
Si1-xGexエピタキシヤル成長 SI1-XGEXエピタキシヤルセイチヨウ
反射高速電子線回折 ハンシヤコウソクデンシセンカイセツ
表面偏析 ヒヨウメンヘンセキ