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電子エネルギー損失分光法を用いた原子層CVDにおける反応メカニズムの研究

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電子エネルギー損失分光法を用いた原子層CVDにおける反応メカニズムの研究

Call No. (NDL)
Y151-H08455019
Bibliographic ID of National Diet Library
000007011703
Material type
図書
Author
安田, 幸夫, 名古屋大学
Publisher
-
Publication date
1996-1998
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
-
NDC
-
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Notes on use

Note (General):

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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Bibliographic Record

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Paper

Material Type
図書
Title Transcription
デンシ エネルギー ソンシツ ブンコウホウ オ モチイタ ゲンシソウ CVD ニ オケル ハンノウ メカニズム ノ ケンキュウ
Author/Editor
安田, 幸夫, 名古屋大学
Author Heading
著者 : 安田, 幸夫, 1940- ヤスダ, ユキオ, 1940- ( 00950833 )Authorities
Publication Date
1996-1998
Publication Date (W3CDTF)
1996
Extent
Additional Title
研究種目 基盤研究(B)
Subject Heading
高分解能電子エネルギー損失分光法 コウブンカイノウデンシエネルギーソンシツブンコウホウ
化学気相成長 カガクキソウセイチヨウ
表面吸着水素 ヒヨウメンキユウチヤクスイソ
表面反応メカニズム ヒヨウメンハンノウメカニズム
ガスソース分子線エピタキシー ガスソースブンシセンエピタキシー
Si1-xGexエピタキシヤル成長 SI1-XGEXエピタキシヤルセイチヨウ
反射高速電子線回折 ハンシヤコウソクデンシセンカイセツ
表面偏析 ヒヨウメンヘンセキ