シリコン酸化膜/シリコン界面形成の原子スケール制御による超平坦界面の実現

• 資料種別: 図書
• タイトル: シリコン酸化膜/シリコン界面形成の原子スケール制御による超平坦界面の実現
• タイトルよみ: シリコン サンカマク/シリコン カイメン ケイセイ ノ ゲンシ スケール セイギョ ニ ヨル チョウヘイタン カイメン ノ ジツゲン
• 著者・編者: 服部, 健雄, 武蔵工業大学
• 著者標目: 服部, 健雄 ハットリ, タケオ
• 出版年月日等: 1996-1998
• 出版年（W3CDTF）: 1996
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(B)
• 件名標目: シリコン酸化膜 シリコンサンカマク; Si-SiO2 SI-SIO2; 界面構造 カイメンコウゾウ; 原子スケール ゲンシスケール; 酸化膜の層状成長 サンカマクノソウジヨウセイチヨウ; 酸化反応 サンカハンノウ; 価電子帯 カデンシタイ; 価電子帯の不連続量 カデンシタイノフレンゾクリヨウ
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 08455023
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H08455023
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007011706; http://id.ndl.go.jp/bib/000007011706
• 整理区分コード: 214