シリコン酸化膜/シリコン界面形成の原子スケール制御による超平坦界面の実現

• Material Type: 図書
• Title: シリコン酸化膜/シリコン界面形成の原子スケール制御による超平坦界面の実現
• Title Transcription: シリコン サンカマク/シリコン カイメン ケイセイ ノ ゲンシ スケール セイギョ ニ ヨル チョウヘイタン カイメン ノ ジツゲン
• Author/Editor: 服部, 健雄, 武蔵工業大学
• Author Heading: 服部, 健雄 ハットリ, タケオ
• Publication Date: 1996-1998
• Publication Date (W3CDTF): 1996
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 基盤研究(B)
• Subject Heading: シリコン酸化膜 シリコンサンカマク; Si-SiO2 SI-SIO2; 界面構造 カイメンコウゾウ; 原子スケール ゲンシスケール; 酸化膜の層状成長 サンカマクノソウジヨウセイチヨウ; 酸化反応 サンカハンノウ; 価電子帯 カデンシタイ; 価電子帯の不連続量 カデンシタイノフレンゾクリヨウ
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 08455023
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H08455023
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000007011706; http://id.ndl.go.jp/bib/000007011706
• Bibliographic Record Category (NDL): 214