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高感度光電子収率分光による極めて薄い酸化膜/シリコン界面の欠陥密度定量評価

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高感度光電子収率分光による極めて薄い酸化膜/シリコン界面の欠陥密度定量評価

国立国会図書館請求記号
Y151-H08455147
国立国会図書館書誌ID
000007011825
資料種別
図書
著者
宮崎, 誠一, 広島大学
出版者
-
出版年
1996-1997
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
コウカンド コウデンシシュウリツ ブンコウ ニ ヨル キワメテ ウスイ サンカマク/シリコン カイメン ノ ケッカン ミツド テイリョウ ヒョウカ
著者・編者
宮崎, 誠一, 広島大学
著者標目
宮崎, 誠一 ミヤザキ, セイイチ
出版年月日等
1996-1997
出版年(W3CDTF)
1996
数量
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(B)
件名標目
極薄SiO2/Si界面 ゴクウスSIO2/SIカイメン
光電子収率分光法 コウデンシシユウリツブンコウホウ
フエルミ準位 フエルミジユンイ
表面準位密度 ヒヨウメンジユンイミツド
価電子帯状態密度 カデンシタイジヨウタイミツド
光電子脱出深さ コウデンシダツシユツフカサ
界面準位密度 カイメンジユンイミツド
水素終端Si処理 スイソシユウタンSIシヨリ