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高感度光電子収率分光による極めて薄い酸化膜/シリコン界面の欠陥密度定量評価

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高感度光電子収率分光による極めて薄い酸化膜/シリコン界面の欠陥密度定量評価

Call No. (NDL)
Y151-H08455147
Bibliographic ID of National Diet Library
000007011825
Material type
図書
Author
宮崎, 誠一, 広島大学
Publisher
-
Publication date
1996-1997
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
-
NDC
-
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Note (General):

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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Paper

Material Type
図書
Title Transcription
コウカンド コウデンシシュウリツ ブンコウ ニ ヨル キワメテ ウスイ サンカマク/シリコン カイメン ノ ケッカン ミツド テイリョウ ヒョウカ
Author/Editor
宮崎, 誠一, 広島大学
Author Heading
宮崎, 誠一 ミヤザキ, セイイチ
Publication Date
1996-1997
Publication Date (W3CDTF)
1996
Extent
Additional Title
研究種目 基盤研究(B)
Subject Heading
極薄SiO2/Si界面 ゴクウスSIO2/SIカイメン
光電子収率分光法 コウデンシシユウリツブンコウホウ
フエルミ準位 フエルミジユンイ
表面準位密度 ヒヨウメンジユンイミツド
価電子帯状態密度 カデンシタイジヨウタイミツド
光電子脱出深さ コウデンシダツシユツフカサ
界面準位密度 カイメンジユンイミツド
水素終端Si処理 スイソシユウタンSIシヨリ