次世代ULSI用超低抵抗コンタクト材料の開発

• 資料種別: 図書
• タイトル: 次世代ULSI用超低抵抗コンタクト材料の開発
• タイトルよみ: ジセダイ ULSI ヨウ チョウテイテイコウ コンタクト ザイリョウ ノ カイハツ
• 著者・編者: 安田, 幸夫, 名古屋大学
• 著者標目: 安田, 幸夫 ヤスダ, ユキオ
• 出版年月日等: 1996-1998
• 出版年（W3CDTF）: 1996
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(A)
• 件名標目: Coシリサイド COシリサイド; シヨツトキコンタクト特性 シヨツトキコンタクトトクセイ; シヨツトキ障壁高さ シヨツトキシヨウヘキタカサ; 界面固相反応 カイメンコソウハンノウ; コンタクト抵抗率 コンタクトテイコウリツ
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 08505001
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H08505001
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007013202; http://id.ndl.go.jp/bib/000007013202
• 整理区分コード: 214