超音速分子線、ラジカル原子線を用いたシリコン表面プロセスの新方式

• 資料種別: 図書
• タイトル: 超音速分子線、ラジカル原子線を用いたシリコン表面プロセスの新方式
• タイトルよみ: チョウオンソク ブンシセン 、 ラジカル ゲンシセン オ モチイタ シリコン ヒョウメン プロセス ノ シン ホウシキ
• 著者・編者: 並木, 章, 九州工業大学
• 著者標目: 並木, 章 ナミキ, アキラ
• 出版年月日等: 1996-1997
• 出版年（W3CDTF）: 1996
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(A)
• 件名標目: 超音速分子線 チヨウオンソクブンシセン; シリコン表面反応 シリコンヒヨウメンハンノウ; 水素原子線 スイソゲンシセン; 水素引き抜き反応 スイソヒキヌキハンノウ
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 08555008
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H08555008
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007013254; http://id.ndl.go.jp/bib/000007013254
• 整理区分コード: 214