超音速分子線、ラジカル原子線を用いたシリコン表面プロセスの新方式

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Material Type: 図書
Title: 超音速分子線、ラジカル原子線を用いたシリコン表面プロセスの新方式
Title Transcription: チョウオンソクブンシセン、ラジカルゲンシセンオモチイタシリコンヒョウメンプロセスノシンホウシキ
Author/Editor: 並木, 章, 九州工業大学
Author Heading: 並木, 章ナミキ, アキラ
Publication Date: 1996-1997
Publication Date (W3CDTF): 1996
Extent: 冊
Additional Title: 研究種目基盤研究(A)
Subject Heading: 超音速分子線チヨウオンソクブンシセン
シリコン表面反応シリコンヒヨウメンハンノウ
水素原子線スイソゲンシセン
水素引き抜き反応スイソヒキヌキハンノウ
NDLC: Y151
Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 08555008
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-H08555008
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000007013254
http://id.ndl.go.jp/bib/000007013254
Bibliographic Record Category (NDL): 214