超音速分子線、ラジカル原子線を用いたシリコン表面プロセスの新方式

• Material Type: 図書
• Title: 超音速分子線、ラジカル原子線を用いたシリコン表面プロセスの新方式
• Title Transcription: チョウオンソク ブンシセン 、 ラジカル ゲンシセン オ モチイタ シリコン ヒョウメン プロセス ノ シン ホウシキ
• Author/Editor: 並木, 章, 九州工業大学
• Author Heading: 並木, 章 ナミキ, アキラ
• Publication Date: 1996-1997
• Publication Date (W3CDTF): 1996
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 基盤研究(A)
• Subject Heading: 超音速分子線 チヨウオンソクブンシセン; シリコン表面反応 シリコンヒヨウメンハンノウ; 水素原子線 スイソゲンシセン; 水素引き抜き反応 スイソヒキヌキハンノウ
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 08555008
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H08555008
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000007013254; http://id.ndl.go.jp/bib/000007013254
• Bibliographic Record Category (NDL): 214