スパツタ膜作製における低エネルギーイオン照射による膜特性の制御に関する研究

• 資料種別: 図書
• タイトル: スパツタ膜作製における低エネルギーイオン照射による膜特性の制御に関する研究
• タイトルよみ: スパツタマク サクセイ ニ オケル テイエネルギーイオン ショウシャ ニ ヨル マク トクセイ ノ セイギョ ニ カンスル ケンキュウ
• 著者・編者: 富永, 喜久雄, 徳島大学
• 著者標目: 富永, 喜久雄 トミナガ, キクオ
• 出版年月日等: 1996-1997
• 出版年（W3CDTF）: 1996
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(C)
• 件名標目: スパツタリング スパツタリング; 窒化物薄膜 チツカブツハクマク; 酸化物薄膜 サンカブツハクマク; AlN ALN; ZnO ZNO; ITO ITO; 透明導電膜 トウメイドウデンマク
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 08650383
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H08650383
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007014838; http://id.ndl.go.jp/bib/000007014838
• 整理区分コード: 214