固相拡散によるシリコンウエハ内への浅いpn接合の低温における形成方法の確立

• 資料種別: 図書
• タイトル: 固相拡散によるシリコンウエハ内への浅いpn接合の低温における形成方法の確立
• タイトルよみ: コソウ カクサン ニ ヨル シリコンウエハ ナイ ヘ ノ アサイ pn セツゴウ ノ テイオン ニ オケル ケイセイ ホウホウ ノ カクリツ
• 著者・編者: 石川, 豊, 日本工業大学
• 著者標目: 石川, 豊 イシカワ, ユタカ
• 出版年月日等: 1996-1998
• 出版年（W3CDTF）: 1996
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(C)
• 件名標目: 固相拡散 コソウカクサン; シリコン シリコン; 不純物 フジユンブツ; 低温プロセス テイオンプロセス
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 08650411
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H08650411
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007014854; http://id.ndl.go.jp/bib/000007014854
• 整理区分コード: 214