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界面制御によるシリコン基板上への強誘電体薄膜のヘテロエピタキシヤル成長

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界面制御によるシリコン基板上への強誘電体薄膜のヘテロエピタキシヤル成長

国立国会図書館請求記号
Y151-H09450125
国立国会図書館書誌ID
000007018313
資料種別
図書
著者
堀田, 将, 北陸先端科学技術大学院大学
出版者
-
出版年
1997-1998
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
カイメン セイギョ ニ ヨル シリコン キバン ジョウ ヘ ノ キョウ ユウデンタイ ハクマク ノ ヘテロエピタキシヤル セイチョウ
著者・編者
堀田, 将, 北陸先端科学技術大学院大学
著者標目
堀田, 将 ホリタ, ススム
出版年月日等
1997-1998
出版年(W3CDTF)
1997
数量
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(B)
件名標目
ジルコン酸チタン酸鉛 ジルコンサンチタンサンナマリ
シリコン シリコン
強誘電体 キヨウユウデンタイ
イツトリア安定化ジルコニア イツトリアアンテイカジルコニア
反応性スパツタリング ハンノウセイスパツタリング
ヘテロエピタキシヤル成長 ヘテロエピタキシヤルセイチヨウ
強誘電体メモリ キヨウユウデンタイメモリ