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図書
薄膜パターン・マスクを用いない新しいX線縮小転写露光装置の試作
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薄膜パターン・マスクを用いない新しいX線縮小転写露光装置の試作
国立国会図書館請求記号
Y151-S60850069
国立国会図書館書誌ID
000007025933
資料種別
図書
著者
松村, 英樹, 広島大学
出版者
-
出版年
1985-1986
資料形態
紙
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記
一般注記:
文部省科学研究費補助金研究成果報告書
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書誌情報
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紙
資料種別
図書
タイトル
薄膜パターン・マスクを用いない新しいX線縮小転写露光装置の試作
タイトルよみ
ハクマク パターン ・ マスク オ モチイナイ アタラシイ Xセン シュクショウ テンシャ ロコウ ソウチ ノ シサク
著者・編者
松村, 英樹, 広島大学
著者標目
松村, 英樹
マツムラ, ヒデキ
出版年月日等
1985-1986
出版年(W3CDTF)
1985
数量
冊
件名標目
微細加工技術
ビサイカコウギジユツ
リソグラフイー
リソグラフイー
X線リソグラフイー
Xセンリソグラフイー
NDLC
Y151
一般注記
文部省科学研究費補助金研究成果報告書
科研費課題番号
60850069
所蔵機関
国立国会図書館
請求記号
Y151-S60850069
連携機関・データベース
国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID(NDLBibID)
000007025933
http://id.ndl.go.jp/bib/000007025933
整理区分コード
214
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