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紫外光励起を利用したシリコン基板上へのエピタキシヤル絶縁膜形成の基礎研究

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紫外光励起を利用したシリコン基板上へのエピタキシヤル絶縁膜形成の基礎研究

国立国会図書館請求記号
Y151-S61460124
国立国会図書館書誌ID
000007026830
資料種別
図書
著者
中村, 哲郎, 豊橋技術科学大学
出版者
-
出版年
1986-1988
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
シガイコウレイキ オ リヨウ シタ シリコン キバン ジョウ ヘ ノ エピタキシヤル ゼツエンマク ケイセイ ノ キソ ケンキュウ
著者・編者
中村, 哲郎, 豊橋技術科学大学
著者標目
中村, 哲郎 ナカムラ, テツロウ
出版年月日等
1986-1988
出版年(W3CDTF)
1986
数量
件名標目
エピタキシヤルAl2O3膜 エピタキシヤルAL2O3マク
ガスソース分子線エピタキシー ガスソースブンシセンエピタキシー
紫外光励起 シガイコウレイキ
シリコン基板 シリコンキバン
X線光電子分光法 Xセンコウデンシブンコウホウ
NDLC