紫外光励起を利用したシリコン基板上へのエピタキシヤル絶縁膜形成の基礎研究

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Material Type: 図書
Title: 紫外光励起を利用したシリコン基板上へのエピタキシヤル絶縁膜形成の基礎研究
Title Transcription: シガイコウレイキオリヨウシタシリコンキバンジョウヘノエピタキシヤルゼツエンマクケイセイノキソケンキュウ
Author/Editor: 中村, 哲郎, 豊橋技術科学大学
Author Heading: 中村, 哲郎ナカムラ, テツロウ
Publication Date: 1986-1988
Publication Date (W3CDTF): 1986
Extent: 冊
Subject Heading: エピタキシヤルAl2O3膜エピタキシヤルAL2O3マク
ガスソース分子線エピタキシーガスソースブンシセンエピタキシー
紫外光励起シガイコウレイキ
シリコン基板シリコンキバン
X線光電子分光法 Xセンコウデンシブンコウホウ
NDLC: Y151
Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 61460124
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-S61460124
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000007026830
http://id.ndl.go.jp/bib/000007026830
Bibliographic Record Category (NDL): 214