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書誌情報
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- 資料種別
- 図書
- タイトルよみ
- MOS ガタ IC ザイリョウ ノ カガク ハンノウ ト カクサン ニ カンスル ケンキュウ
- 著者・編者
- 後藤, 和弘, 東京工業大学
- 著者標目
- 後藤, 和弘 ゴトウ, カズヒロ
- 出版年月日等
- 1986-1987
- 出版年(W3CDTF)
- 1986
- 数量
- 冊
- 件名標目
- MOSIC MOSICシリコン シリコンシリコン酸化膜 シリコンサンカマク熱酸化 ネツサンカスパツタリング スパツタリング拡散 カクサン化学反応 カガクハンノウ蒸発 ジヨウハツ蒸着 ジヨウチヤク屈折率 クツセツリツエレクトロクロミズム、Li2O-B2O3、La2O2-WO3 エレクトロクロミズム、LI2O-B2O3、LA2O2-WO3
- NDLC