MOS型IC材料の化学反応と拡散に関する研究

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Material Type: 図書
Title: MOS型IC材料の化学反応と拡散に関する研究
Title Transcription: MOS ガタ IC ザイリョウノカガクハンノウトカクサンニカンスルケンキュウ
Author/Editor: 後藤, 和弘, 東京工業大学
Author Heading: 後藤, 和弘ゴトウ, カズヒロ
Publication Date: 1986-1987
Publication Date (W3CDTF): 1986
Extent: 冊
Subject Heading: MOSIC MOSIC
シリコンシリコン
シリコン酸化膜シリコンサンカマク
熱酸化ネツサンカ
スパツタリングスパツタリング
拡散カクサン
化学反応カガクハンノウ
蒸発ジヨウハツ
蒸着ジヨウチヤク
屈折率クツセツリツ
エレクトロクロミズム、Li2O-B2O3、La2O2-WO3 エレクトロクロミズム、LI2O-B2O3、LA2O2-WO3
NDLC: Y151
Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 61470055
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-S61470055
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000007026993
http://id.ndl.go.jp/bib/000007026993
Bibliographic Record Category (NDL): 214