低周波プラズマCVDによるシリコン窒化膜の室温形成プロセスの開発

• 資料種別: 図書
• タイトル: 低周波プラズマCVDによるシリコン窒化膜の室温形成プロセスの開発
• タイトルよみ: テイシュウハ プラズマ CVD ニ ヨル シリコン チッカマク ノ シツオン ケイセイ プロセス ノ カイハツ
• 著者・編者: 下妻, 光夫, 北海道大学
• 著者標目: 下妻, 光夫 シモヅマ, ミツオ
• 出版年月日等: 1986-1988
• 出版年（W3CDTF）: 1986
• 数量: 冊
• 件名標目: プラズマCVD プラズマCVD; 低周波 テイシユウハ; デポジシヨン デポジシヨン; シリコン窒化膜 シリコンチツカマク; 室温プロセス シツオンプロセス; 絶縁薄膜 ゼツエンハクマク; 表面保護膜 ヒヨウメンホゴマク
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 61850049
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-S61850049
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007029343; http://id.ndl.go.jp/bib/000007029343
• 整理区分コード: 214