低周波プラズマCVDによるシリコン窒化膜の室温形成プロセスの開発

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Material Type: 図書
Title: 低周波プラズマCVDによるシリコン窒化膜の室温形成プロセスの開発
Title Transcription: テイシュウハプラズマ CVD ニヨルシリコンチッカマクノシツオンケイセイプロセスノカイハツ
Author/Editor: 下妻, 光夫, 北海道大学
Author Heading: 下妻, 光夫シモヅマ, ミツオ
Publication Date: 1986-1988
Publication Date (W3CDTF): 1986
Extent: 冊
Subject Heading: プラズマCVD プラズマCVD
低周波テイシユウハ
デポジシヨンデポジシヨン
シリコン窒化膜シリコンチツカマク
室温プロセスシツオンプロセス
絶縁薄膜ゼツエンハクマク
表面保護膜ヒヨウメンホゴマク
NDLC: Y151
Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 61850049
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-S61850049
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000007029343
http://id.ndl.go.jp/bib/000007029343
Bibliographic Record Category (NDL): 214