二周波数励起低運動エネルギイオン照射プロセス成膜装置の開発

• 資料種別: 図書
• タイトル: 二周波数励起低運動エネルギイオン照射プロセス成膜装置の開発
• タイトルよみ: ニ シュウハスウレイキテイウンドウ エネルギイオン ショウシャ プロセスセイマク ソウチ ノ カイハツ
• 著者・編者: 大見, 忠弘, 東北大学
• 著者標目: 大見, 忠弘 オオミ, タダヒロ
• 出版年月日等: 1988-1989
• 出版年（W3CDTF）: 1988
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 奨励研究(B)
• 件名標目: スパツタリング スパツタリング; 低温プロセス テイオンプロセス; シリコンエピタキシヤル成長 シリコンエピタキシヤルセイチヨウ; 低エネルギイオン照射 テイエネルギイオンシヨウシヤ; Cu配線 CUハイセン; Al配線 ALハイセン; 超高密度LSI チヨウコウミツドLSI
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 63850058
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-S63850058
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007036363; http://id.ndl.go.jp/bib/000007036363
• 整理区分コード: 214