二周波数励起低運動エネルギイオン照射プロセス成膜装置の開発

• Material Type: 図書
• Title: 二周波数励起低運動エネルギイオン照射プロセス成膜装置の開発
• Title Transcription: ニ シュウハスウレイキテイウンドウ エネルギイオン ショウシャ プロセスセイマク ソウチ ノ カイハツ
• Author/Editor: 大見, 忠弘, 東北大学
• Author Heading: 大見, 忠弘 オオミ, タダヒロ
• Publication Date: 1988-1989
• Publication Date (W3CDTF): 1988
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 奨励研究(B)
• Subject Heading: スパツタリング スパツタリング; 低温プロセス テイオンプロセス; シリコンエピタキシヤル成長 シリコンエピタキシヤルセイチヨウ; 低エネルギイオン照射 テイエネルギイオンシヨウシヤ; Cu配線 CUハイセン; Al配線 ALハイセン; 超高密度LSI チヨウコウミツドLSI
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 63850058
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-S63850058
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000007036363; http://id.ndl.go.jp/bib/000007036363
• Bibliographic Record Category (NDL): 214