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二周波数励起低運動エネルギイオン照射プロセス成膜装置の開発

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二周波数励起低運動エネルギイオン照射プロセス成膜装置の開発

Call No. (NDL)
Y151-S63850058
Bibliographic ID of National Diet Library
000007036363
Material type
図書
Author
大見, 忠弘, 東北大学
Publisher
-
Publication date
1988-1989
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
-
NDC
-
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Notes on use

Note (General):

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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Paper

Material Type
図書
Title Transcription
ニ シュウハスウレイキテイウンドウ エネルギイオン ショウシャ プロセスセイマク ソウチ ノ カイハツ
Author/Editor
大見, 忠弘, 東北大学
Author Heading
大見, 忠弘 オオミ, タダヒロ
Publication Date
1988-1989
Publication Date (W3CDTF)
1988
Extent
Additional Title
研究種目 奨励研究(B)
Subject Heading
スパツタリング スパツタリング
低温プロセス テイオンプロセス
シリコンエピタキシヤル成長 シリコンエピタキシヤルセイチヨウ
低エネルギイオン照射 テイエネルギイオンシヨウシヤ
Cu配線 CUハイセン
Al配線 ALハイセン
超高密度LSI チヨウコウミツドLSI