レーザー冷却法を用いた異方性ドライエツチングプロセスの開発

• 資料種別: 図書
• タイトル: レーザー冷却法を用いた異方性ドライエツチングプロセスの開発
• タイトルよみ: レーザー レイキャクホウ オ モチイタ イカタセイ ドライエツチングプロセス ノ カイハツ
• 著者・編者: 安武, 潔, 大阪大学
• 著者標目: 安武, 潔 ヤスタケ, キヨシ
• 出版年月日等: 1997-1999
• 出版年（W3CDTF）: 1997
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(B)
• 件名標目: 半導体ドライエツチング ハンドウタイドライエツチング; Fラジカルビーム Fラジカルビーム; レーザー冷却 レーザーレイキヤク; NF3プラズマ NF3プラズマ; レーザーコリメーシヨン レーザーコリメーシヨン
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 09555046
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H09555046
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007056471; http://id.ndl.go.jp/bib/000007056471
• 整理区分コード: 214