量子化イオン照射による半導体ナノ構造の加工と特性制御

• 資料種別: 図書
• タイトル: 量子化イオン照射による半導体ナノ構造の加工と特性制御
• タイトルよみ: リョウシカ イオン ショウシャ ニ ヨル ハンドウタイ ナノ コウゾウ ノ カコウ ト トクセイ セイギョ
• 著者・編者: 大泊, 巌, 早稲田大学
• 著者標目: 著者 ： 大泊, 巌 オオドマリ, イワオ ( 00875965 )典拠
• 出版年月日等: 1997-1999
• 出版年（W3CDTF）: 1997
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(B)
• 件名標目: 量子化イオン照射法 リヨウシカイオンシヨウシヤホウ; 単一イオン抽出 タンイツイオンチユウシユツ; 2次電子検出 2ジデンシケンシユツ; 不純物揺らぎ フジユンブツユラギ; ドーパント個数制御 ドーパントコスウセイギヨ; SIMOX基板 SIMOXキバン; 表面改質 ヒヨウメンカイシツ; 異方性エツチング イホウセイエツチング
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 09555102
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H09555102
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007056501; http://id.ndl.go.jp/bib/000007056501
• 整理区分コード: 214