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量子化イオン照射による半導体ナノ構造の加工と特性制御

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量子化イオン照射による半導体ナノ構造の加工と特性制御

Call No. (NDL)
Y151-H09555102
Bibliographic ID of National Diet Library
000007056501
Material type
図書
Author
大泊, 巌, 早稲田大学
Publisher
-
Publication date
1997-1999
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
-
NDC
-
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Notes on use

Note (General):

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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Paper

Material Type
図書
Title Transcription
リョウシカ イオン ショウシャ ニ ヨル ハンドウタイ ナノ コウゾウ ノ カコウ ト トクセイ セイギョ
Author/Editor
大泊, 巌, 早稲田大学
Author Heading
著者 : 大泊, 巌 オオドマリ, イワオ ( 00875965 )Authorities
Publication Date
1997-1999
Publication Date (W3CDTF)
1997
Extent
Additional Title
研究種目 基盤研究(B)
Subject Heading
量子化イオン照射法 リヨウシカイオンシヨウシヤホウ
単一イオン抽出 タンイツイオンチユウシユツ
2次電子検出 2ジデンシケンシユツ
不純物揺らぎ フジユンブツユラギ
ドーパント個数制御 ドーパントコスウセイギヨ
SIMOX基板 SIMOXキバン
表面改質 ヒヨウメンカイシツ
異方性エツチング イホウセイエツチング