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反応性亜臨界,超臨界炭酸ガスとオゾンによる低吸着性,低ガス放出性酸化膜の製作

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反応性亜臨界,超臨界炭酸ガスとオゾンによる低吸着性,低ガス放出性酸化膜の製作

国立国会図書館請求記号
Y151-H09555220
国立国会図書館書誌ID
000007056546
資料種別
図書
著者
百瀬, 丘, 宮城工業高等専門学校
出版者
-
出版年
1997-1999
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
ハンノウセイ アリンカイ,チョウリンカイ タンサンガス ト オゾン ニ ヨル テイキュウチャクセイ,テイガス ホウシュツセイ サンカマク ノ セイサク
著者・編者
百瀬, 丘, 宮城工業高等専門学校
著者標目
百瀬, 丘 モモセ, タカシ
出版年月日等
1997-1999
出版年(W3CDTF)
1997
数量
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(B)
件名標目
オゾン処理 オゾンシヨリ
超臨界炭酸ガス チヨウリンカイタンサンガス
低ガス放出性酸化膜 テイガスホウシユツセイサンカマク
低吸着性酸化膜 テイキユウチヤクセイサンカマク