反応性亜臨界,超臨界炭酸ガスとオゾンによる低吸着性,低ガス放出性酸化膜の製作

• Material Type: 図書
• Title: 反応性亜臨界,超臨界炭酸ガスとオゾンによる低吸着性,低ガス放出性酸化膜の製作
• Title Transcription: ハンノウセイ アリンカイ,チョウリンカイ タンサンガス ト オゾン ニ ヨル テイキュウチャクセイ,テイガス ホウシュツセイ サンカマク ノ セイサク
• Author/Editor: 百瀬, 丘, 宮城工業高等専門学校
• Author Heading: 百瀬, 丘 モモセ, タカシ
• Publication Date: 1997-1999
• Publication Date (W3CDTF): 1997
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 基盤研究(B)
• Subject Heading: オゾン処理 オゾンシヨリ; 超臨界炭酸ガス チヨウリンカイタンサンガス; 低ガス放出性酸化膜 テイガスホウシユツセイサンカマク; 低吸着性酸化膜 テイキユウチヤクセイサンカマク
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 09555220
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H09555220
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000007056546; http://id.ndl.go.jp/bib/000007056546
• Bibliographic Record Category (NDL): 214