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極端紫外光リソグラフイ用薄膜の最適設計と分光エリプソメトリによるその評価法の研究

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極端紫外光リソグラフイ用薄膜の最適設計と分光エリプソメトリによるその評価法の研究

国立国会図書館請求記号
Y151-H09650048
国立国会図書館書誌ID
000007057191
資料種別
図書
著者
山口, 十六夫, 静岡大学
出版者
-
出版年
1997-1999
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
キョクタン シガイコウ リソグラフイヨウ ハクマク ノ サイテキ セッケイ ト ブンコウ エリプソメトリ ニ ヨル ソノ ヒョウカホウ ノ ケンキュウ
著者・編者
山口, 十六夫, 静岡大学
著者標目
山口, 十六夫 ヤマグチ, トムオ
出版年月日等
1997-1999
出版年(W3CDTF)
1997
数量
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(C)
件名標目
極端紫外光リソグラフイ キヨクタンシガイコウリソグラフイ
超解像マスク チヨウカイゾウマスク
単層ハーフトーン位相シフトマスク タンソウハーフトーンイソウシフトマスク
a-SiNX A-SINX
分光エリプソメトリ ブンコウエリプソメトリ
堆積過程モニタリング タイセキカテイモニタリング
基板温度監視 キバンオンドカンシ
RFスパツタリング RFスパツタリング