Jump to main content
図書

極端紫外光リソグラフイ用薄膜の最適設計と分光エリプソメトリによるその評価法の研究

Icons representing 図書

極端紫外光リソグラフイ用薄膜の最適設計と分光エリプソメトリによるその評価法の研究

Call No. (NDL)
Y151-H09650048
Bibliographic ID of National Diet Library
000007057191
Material type
図書
Author
山口, 十六夫, 静岡大学
Publisher
-
Publication date
1997-1999
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
-
NDC
-
View All

Notes on use

Note (General):

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

Search by Bookstore

Bibliographic Record

You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.

Paper

Material Type
図書
Title Transcription
キョクタン シガイコウ リソグラフイヨウ ハクマク ノ サイテキ セッケイ ト ブンコウ エリプソメトリ ニ ヨル ソノ ヒョウカホウ ノ ケンキュウ
Author/Editor
山口, 十六夫, 静岡大学
Author Heading
山口, 十六夫 ヤマグチ, トムオ
Publication Date
1997-1999
Publication Date (W3CDTF)
1997
Extent
Additional Title
研究種目 基盤研究(C)
Subject Heading
極端紫外光リソグラフイ キヨクタンシガイコウリソグラフイ
超解像マスク チヨウカイゾウマスク
単層ハーフトーン位相シフトマスク タンソウハーフトーンイソウシフトマスク
a-SiNX A-SINX
分光エリプソメトリ ブンコウエリプソメトリ
堆積過程モニタリング タイセキカテイモニタリング
基板温度監視 キバンオンドカンシ
RFスパツタリング RFスパツタリング