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マイクロ波励起プラズマによる低誘電率/高誘電率薄膜形成プロセスの研究

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マイクロ波励起プラズマによる低誘電率/高誘電率薄膜形成プロセスの研究

国立国会図書館請求記号
Y151-H10450111
国立国会図書館書誌ID
000007058788
資料種別
図書
著者
平山, 昌樹, 東北大学
出版者
-
出版年
1998-1999
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
マイクロハレイキプラズマ ニ ヨル テイユウデンリツ/コウユウデンリツ ハクマク ケイセイ プロセス ノ ケンキュウ
著者・編者
平山, 昌樹, 東北大学
著者標目
平山, 昌樹 ヒラヤマ, マサキ
出版年月日等
1998-1999
出版年(W3CDTF)
1998
数量
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(B)
件名標目
低誘電率層間絶縁膜 テイユウデンリツソウカンゼツエンマク
高誘電率膜 コウユウデンリツマク
マイクロ波 マイクロハ
プラズマ プラズマ
半導体 ハンドウタイ
プロセス プロセス
ラジアルラインスロツトアンテナ ラジアルラインスロツトアンテナ