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図書
マイクロ波励起プラズマによる低誘電率/高誘電率薄膜形成プロセスの研究
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マイクロ波励起プラズマによる低誘電率/高誘電率薄膜形成プロセスの研究
国立国会図書館請求記号
Y151-H10450111
国立国会図書館書誌ID
000007058788
資料種別
図書
著者
平山, 昌樹, 東北大学
出版者
-
出版年
1998-1999
資料形態
紙
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記
一般注記:
文部省科学研究費補助金研究成果報告書
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紙
資料種別
図書
タイトル
マイクロ波励起プラズマによる低誘電率/高誘電率薄膜形成プロセスの研究
タイトルよみ
マイクロハレイキプラズマ ニ ヨル テイユウデンリツ/コウユウデンリツ ハクマク ケイセイ プロセス ノ ケンキュウ
著者・編者
平山, 昌樹, 東北大学
著者標目
平山, 昌樹
ヒラヤマ, マサキ
出版年月日等
1998-1999
出版年(W3CDTF)
1998
数量
冊
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(B)
件名標目
低誘電率層間絶縁膜
テイユウデンリツソウカンゼツエンマク
高誘電率膜
コウユウデンリツマク
マイクロ波
マイクロハ
プラズマ
プラズマ
半導体
ハンドウタイ
プロセス
プロセス
ラジアルラインスロツトアンテナ
ラジアルラインスロツトアンテナ
NDLC
Y151
一般注記
文部省科学研究費補助金研究成果報告書
科研費課題番号
10450111
所蔵機関
国立国会図書館
請求記号
Y151-H10450111
連携機関・データベース
国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID(NDLBibID)
000007058788
http://id.ndl.go.jp/bib/000007058788
整理区分コード
214
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