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ビームその場プロセスによるナノ真空電子源の作製と評価

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ビームその場プロセスによるナノ真空電子源の作製と評価

国立国会図書館請求記号
Y151-H10450138
国立国会図書館書誌ID
000007058800
資料種別
図書
著者
高井, 幹夫, 大阪大学
出版者
-
出版年
1998-1999
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
ビーム ソノ バ プロセス ニ ヨル ナノ シンクウ デンシ ゲン ノ サクセイ ト ヒョウカ
著者・編者
高井, 幹夫, 大阪大学
著者標目
高井, 幹夫 タカイ, ミキオ
出版年月日等
1998-1999
出版年(W3CDTF)
1998
数量
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(B)
件名標目
真空マイクロエレクトロニクス シンクウマイクロエレクトロニクス
真空電子源 シンクウデンシゲン
極微冷陰極 キヨクビレイインキヨク
電界放出電子源 デンカイホウシユツデンシゲン
集束イオンビーム シユウソクイオンビーム
電子ビーム支援プロセス デンシビームシエンプロセス
ビームプロセス ビームプロセス
イオンマイクロプローブ イオンマイクロプローブ