界面構造解析・制御による薄膜成長プロセスの動的キヤラクタリゼーシヨン

• 資料種別: 図書
• タイトル: 界面構造解析・制御による薄膜成長プロセスの動的キヤラクタリゼーシヨン
• タイトルよみ: カイメン コウゾウ カイセキ ・ セイギョ ニ ヨル ハクマク セイチョウ プロセス ノ ドウテキ キヤラクタリゼーシヨン
• 著者・編者: 二瓶, 好正, 東京大学
• 著者標目: 著者 ： 二瓶, 好正, 1940- ニヘイ, ヨシマサ, 1940- ( 00216119 )典拠
• 出版年月日等: 1998-1999
• 出版年（W3CDTF）: 1998
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(B)
• 件名標目: X線光電子回折 Xセンコウデンシカイセツ; XPED時間分解測定 XPEDジカンブンカイソクテイ; 表面変性エピタキシー ヒヨウメンヘンセイエピタキシー; 表面合金化プロセス ヒヨウメンゴウキンカプロセス; tensor XPED TENSORXPED; Gu/Ge (111) 系 GU/GE (111) ケイ
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 10450317
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H10450317
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007058877; http://id.ndl.go.jp/bib/000007058877
• 整理区分コード: 214