界面構造解析・制御による薄膜成長プロセスの動的キヤラクタリゼーシヨン

• Material Type: 図書
• Title: 界面構造解析・制御による薄膜成長プロセスの動的キヤラクタリゼーシヨン
• Title Transcription: カイメン コウゾウ カイセキ ・ セイギョ ニ ヨル ハクマク セイチョウ プロセス ノ ドウテキ キヤラクタリゼーシヨン
• Author/Editor: 二瓶, 好正, 東京大学
• Author Heading: 著者 ： 二瓶, 好正, 1940- ニヘイ, ヨシマサ, 1940- ( 00216119 )Authorities
• Publication Date: 1998-1999
• Publication Date (W3CDTF): 1998
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 基盤研究(B)
• Subject Heading: X線光電子回折 Xセンコウデンシカイセツ; XPED時間分解測定 XPEDジカンブンカイソクテイ; 表面変性エピタキシー ヒヨウメンヘンセイエピタキシー; 表面合金化プロセス ヒヨウメンゴウキンカプロセス; tensor XPED TENSORXPED; Gu/Ge (111) 系 GU/GE (111) ケイ
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 10450317
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H10450317
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000007058877; http://id.ndl.go.jp/bib/000007058877
• Bibliographic Record Category (NDL): 214