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低速イオン注入複合分子線エピタキシによる単結晶シリコン・酸化物量子構造の形成

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低速イオン注入複合分子線エピタキシによる単結晶シリコン・酸化物量子構造の形成

国立国会図書館請求記号
Y151-H10555002
国立国会図書館書誌ID
000007059271
資料種別
図書
著者
深津, 晋, 東京大学
出版者
-
出版年
1998-1999
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
テイソク イオン チュウニュウ フクゴウ ブンシセン エピタキシ ニ ヨル タンケッショウ シリコン ・ サンカブツ リョウシ コウゾウ ノ ケイセイ
著者・編者
深津, 晋, 東京大学
著者標目
著者 : 深津, 晋 フカツ, ススム ( 01111832 )典拠
出版年月日等
1998-1999
出版年(W3CDTF)
1998
数量
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(B)
件名標目
半導体ヘテロ構造 ハンドウタイヘテロコウゾウ
ワイドギヤツプ・低誘電率 ワイドギヤツプ・テイユウデンリツ
非晶質シリコン酸化物障壁 ヒシヨウシツシリコンサンカブツシヨウヘキ
エピSi/SiO2量子構造 エピSI/SIO2リヨウシコウゾウ
電子・光の閉じ込め デンシ・ヒカリノトジコメ
低速イオン注入複合分子線エピタキシ法 テイソクイオンチユウニユウフクゴウブンシセンエピタキシホウ
SiGe混晶ベース量子構造 SIGEコンシヨウベースリヨウシコウゾウ
高密度励起子 コウミツドレイキシ