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低速イオン注入複合分子線エピタキシによる単結晶シリコン・酸化物量子構造の形成

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低速イオン注入複合分子線エピタキシによる単結晶シリコン・酸化物量子構造の形成

Call No. (NDL)
Y151-H10555002
Bibliographic ID of National Diet Library
000007059271
Material type
図書
Author
深津, 晋, 東京大学
Publisher
-
Publication date
1998-1999
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
-
NDC
-
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Note (General):

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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Paper

Material Type
図書
Title Transcription
テイソク イオン チュウニュウ フクゴウ ブンシセン エピタキシ ニ ヨル タンケッショウ シリコン ・ サンカブツ リョウシ コウゾウ ノ ケイセイ
Author/Editor
深津, 晋, 東京大学
Author Heading
深津, 晋 フカツ, ススム
Publication Date
1998-1999
Publication Date (W3CDTF)
1998
Extent
Additional Title
研究種目 基盤研究(B)
Subject Heading
半導体ヘテロ構造 ハンドウタイヘテロコウゾウ
ワイドギヤツプ・低誘電率 ワイドギヤツプ・テイユウデンリツ
非晶質シリコン酸化物障壁 ヒシヨウシツシリコンサンカブツシヨウヘキ
エピSi/SiO2量子構造 エピSI/SIO2リヨウシコウゾウ
電子・光の閉じ込め デンシ・ヒカリノトジコメ
低速イオン注入複合分子線エピタキシ法 テイソクイオンチユウニユウフクゴウブンシセンエピタキシホウ
SiGe混晶ベース量子構造 SIGEコンシヨウベースリヨウシコウゾウ
高密度励起子 コウミツドレイキシ