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書誌情報
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- 資料種別
- 図書
- タイトルよみ
- イッサンカ ニ チッソ ガス オ モチイタ キュウソク ネツ ショリ ニ ヨル コウヒンシツ ゴクウス シリコンサン チッカマク ノ ケイセイ
- 著者・編者
- 野村, 滋, 室蘭工業大学
- 著者標目
- 野村, 滋 ノムラ, シゲル
- 出版年月日等
- 1998-1999
- 出版年（W3CDTF）
- 1998
- 数量
- 冊
- その他のタイトル
- 研究種目 基盤研究(C)
- 件名標目
- シリコンテクノロジー シリコンテクノロジー一酸化二窒素ガス 1サンカニチツソガス急速熱処理 キユウソクネツシヨリ極薄シリコン酸窒化膜 ゴクウスシリコンサンチツカマクデバイスプロセス デバイスプロセス