一酸化二窒素ガスを用いた急速熱処理による高品質極薄シリコン酸窒化膜の形成

• Material Type: 図書
• Title: 一酸化二窒素ガスを用いた急速熱処理による高品質極薄シリコン酸窒化膜の形成
• Title Transcription: イッサンカ ニ チッソ ガス オ モチイタ キュウソク ネツ ショリ ニ ヨル コウヒンシツ ゴクウス シリコンサン チッカマク ノ ケイセイ
• Author/Editor: 野村, 滋, 室蘭工業大学
• Author Heading: 野村, 滋 ノムラ, シゲル
• Publication Date: 1998-1999
• Publication Date (W3CDTF): 1998
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 基盤研究(C)
• Subject Heading: シリコンテクノロジー シリコンテクノロジー; 一酸化二窒素ガス 1サンカニチツソガス; 急速熱処理 キユウソクネツシヨリ; 極薄シリコン酸窒化膜 ゴクウスシリコンサンチツカマク; デバイスプロセス デバイスプロセス
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 10650328
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H10650328
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000007060464; http://id.ndl.go.jp/bib/000007060464
• Bibliographic Record Category (NDL): 214