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酸化シリコンナノポーラス薄膜の低誘電率材料への応用

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酸化シリコンナノポーラス薄膜の低誘電率材料への応用

国立国会図書館請求記号
Y151-H11650317
国立国会図書館書誌ID
000007067342
資料種別
図書
著者
内田, 和男, 電気通信大学
出版者
-
出版年
1999-2000
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
サンカ シリコンナノポーラス ハクマク ノ テイユウデンリツ ザイリョウ ヘ ノ オウヨウ
著者・編者
内田, 和男, 電気通信大学
著者標目
内田, 和男 ウチダ, カズオ
出版年月日等
1999-2000
出版年(W3CDTF)
1999
数量
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(C)
件名標目
低誘電率材料 テイユウデンリツザイリヨウ
層間絶縁膜 ソウカンゼツエンマク
酸化シリコンナノポーラス薄膜 サンカシリコンナノポーラスハクマク
ガス中蒸発法 ガスチユウジヨウハツホウ
クラスター クラスター