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半導体製造工程から排出される三フツ化窒素の化学的固定による無害化システムの確立

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半導体製造工程から排出される三フツ化窒素の化学的固定による無害化システムの確立

国立国会図書館請求記号
Y151-H11650788
国立国会図書館書誌ID
000007067636
資料種別
図書
著者
山本, 秀樹, 関西大学
出版者
-
出版年
1999-2000
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
ハンドウタイ セイゾウ コウテイ カラ ハイシュツ サレル サン フツカ チッソ ノ カガクテキ コテイ ニ ヨル ムガイカ システム ノ カクリツ
著者・編者
山本, 秀樹, 関西大学
著者標目
山本, 秀樹 ヤマモト, ヒデキ
出版年月日等
1999-2000
出版年(W3CDTF)
1999
数量
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(C)
件名標目
特殊ガス トクシユガス
無害化 ムガイカ
半導体製造 ハンドウタイセイゾウ
三フツ化窒素 サンフツカチツソ
塩化カルシウム エンカカルシウム
化学反応 カガクハンノウ
フツ化カルシウム フツカカルシウム
温室効果 オンシツコウカ