酸素負イオンプラズマによるシリコンの低温高速酸化に関する研究

• 資料種別: 図書
• タイトル: 酸素負イオンプラズマによるシリコンの低温高速酸化に関する研究
• タイトルよみ: サンソフイオンプラズマ ニ ヨル シリコン ノ テイオン コウソク サンカ ニ カンスル ケンキュウ
• 著者・編者: 進藤, 春雄, 東海大学
• 著者標目: 進藤, 春雄 シンドウ, ハルオ
• 出版年月日等: 1999-2000
• 出版年（W3CDTF）: 1999
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(C)
• 件名標目: シリコン酸化膜 シリコンサンカマク; 酸素負イオン酸化 サンソフイオンサンカ; 素子分離用酸化膜 ソシブンリヨウサンカマク; 高速シリコン酸化 コウソクシリコンサンカ; 低損傷酸化膜 テイソンシヨウサンカマク; 低温シリコン酸化 テイオンシリコンサンカ; サブオキサイド サブオキサイド; プラズマプロセス プラズマプロセス
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 11680490
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H11680490
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007069737; http://id.ndl.go.jp/bib/000007069737
• 整理区分コード: 214