酸素負イオンプラズマによるシリコンの低温高速酸化に関する研究

• Material Type: 図書
• Title: 酸素負イオンプラズマによるシリコンの低温高速酸化に関する研究
• Title Transcription: サンソフイオンプラズマ ニ ヨル シリコン ノ テイオン コウソク サンカ ニ カンスル ケンキュウ
• Author/Editor: 進藤, 春雄, 東海大学
• Author Heading: 進藤, 春雄 シンドウ, ハルオ
• Publication Date: 1999-2000
• Publication Date (W3CDTF): 1999
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 基盤研究(C)
• Subject Heading: シリコン酸化膜 シリコンサンカマク; 酸素負イオン酸化 サンソフイオンサンカ; 素子分離用酸化膜 ソシブンリヨウサンカマク; 高速シリコン酸化 コウソクシリコンサンカ; 低損傷酸化膜 テイソンシヨウサンカマク; 低温シリコン酸化 テイオンシリコンサンカ; サブオキサイド サブオキサイド; プラズマプロセス プラズマプロセス
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 11680490
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H11680490
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000007069737; http://id.ndl.go.jp/bib/000007069737
• Bibliographic Record Category (NDL): 214